L'analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Basé sur CMOS, décharge par étincelle, détection de métaux
Limites de détection ultra-basses
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Faible coût d'exploitation et entretien facile
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification standardisée des paramètres
Maximum 30+ éléments
Analyse à haute teneur en azote (N) 0,03-0,9 %
Sommaire:
Le spectromètre d'émission optique W5 apporte la technologie de pointe d'Europe. C'est le 4ème
Arc/Spark-OES de génération avec des performances élevées et des coûts d'exploitation réduits pour l'analyse des métaux et il s'agit de la dernière recherche et développement d'équipements de détection. La conception optique globale a été améliorée, et avec des améliorations de la technologie CMOS utilisée pour améliorer encore les performances du W5 tout en conservant le principal avantage des unités précédentes. Le spectromètre CMOS contient non seulement les caractéristiques du spectre complet du spectromètre CCD, mais également la limite de détection extrêmement basse pour les éléments non métalliques tels que C, S, P, B, As, N, etc. L'opération est simple et facile à apprendre. Le résultat du test est stable et précis. C'est un bon choix parmi tous les métaux courants pour le contrôle qualité des produits entrants et sortants.
Application:
Le spectromètre d'émission optique W5 (spark OES) est utilisé pour des applications dans l'analyse élémentaire des métaux, l'analyse des éléments traces pour la science et l'industrie comme la métallurgie, la fonderie, le génie mécanique, la recherche scientifique, l'inspection des produits, l'automobile, le génie pétrochimique, la construction navale, l'électricité, l'aérospatiale, le nucléaire. Fusion, traitement et recyclage de métaux, de métaux et de métaux non ferreux.
Usines sidérurgiques nécessitant une grande précision ou des éléments tels que C, N, Cr, S, P, etc.
Laboratoires d'essais : laboratoires d'essais commerciaux, universités et collèges
Applications de métaux purs pureté Al, Pb, Zn, C u etc. – la plupart des utilisateurs industriels
Conformité réglementaire Très faibles limites de détection pour contrôler Pb, Cd, As, etc.
Les fonderies qui ont besoin d'une analyse rapide à proximité du four
Installations de fabrication
Identification du matériel d'entrepôt
Base : Fe, Cu, Al, Ni, Co, Mg, Ti, Zn, Pb, Sn, Ag, Mn, Cr, etc.
Caractéristiques :
Système optique de performance 1.Superior, Source de parc Intelligent DigitalS
2. Il peut détecter des éléments tels que C, P, S, N et convient à une variété de bases métalliques.
3. La conception du circuit de gaz argon est raisonnable pour raccourcir le temps de lavage à l'argon lorsque l'excitation de l'échantillon.
4.Le taux d'analyse est rapide, tous les éléments du canal peuvent être testés en 20 secondes.
5. Le piège à absorption solide peut empêcher le pétrole et le gaz de polluer la chambre lumineuse et améliorer sa stabilité.
6. Modification des paramètres normalisés.
7. Fonction de correction de l'échantillon de contrôle.
8.Le dispositif de base est tous importé d'origine afin de promettre la qualité des produits.
Paramètre :
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Article |
Indice |
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Système optique |
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Structure optique |
Le système optique de type vide complet de la construction Paschen Runge |
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Température ambiante |
35℃±0.5℃ |
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Gamme de longueurs d'onde |
130-800nm |
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Distance focale |
400mm |
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Ligne de grille |
2400m1/mm |
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Dispersion des raies spectrales de premier ordre rare |
1,2nm/mm |
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Détecteur |
Matrice CMOS linéaire multibloc hautes performances |
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Rapport de résolution moyen |
22h/pixel |
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Tableau des étincelles |
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Gaz |
Gaz argon (99,999%) |
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Débit d'argon |
Quand étincelle : 3-5L/min Autonomie en veille : pas besoin de trafic en veille |
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Électrode |
Technologie d'électrode de tungstène |
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Purge |
Fonction de purge automatique |
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Se maquiller |
Conception d'auto-compensation de la déformation thermique |
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Analyser l'écart |
Stade de l'échantillon : 3,4 mm |
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Source d'étincelle |
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Taper |
HEPS |
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La fréquence |
100-1000HZ |
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Courant de décharge |
1-400A |
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Technologie spéciale |
Optimisation de la conception des paramètres de décharge |
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Pré-combustion |
Technologie de précombustion à haute énergie |
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Processeur |
ARM haut de gamme, acquisition et traitement de synchronisation de données à grande vitesse |
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Système de collecte de données |
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Interface |
Transmission de données Ethernet basée sur DM9000A |
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Du pouvoir |
220VAC 50/60Hz (personnalisé) |
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Les autres |
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Base |
Fe, Cu, Al, Ni, Co, Mg, Ti, Zn, Pb, Sn, Ag, Mn, Cr, etc. |
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Consommation d'énergie |
Maximum : 750 W en veille : 40 W |
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Température de fonctionnement |
10-35℃ ( température ≥5°C) |
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Humidité de travail |
20-85% |
|
Dimension |
860mm(L)*680mm(L)*438mm(H) |
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Lester |
Environ 100Kg |
L'analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Basé sur CMOS, décharge par étincelle, détection de métaux
Limites de détection ultra-basses
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Faible coût d'exploitation et entretien facile
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification standardisée des paramètres
Maximum 30+ éléments
Analyse à haute teneur en azote (N) 0,03-0,9 %
L'analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Basé sur CMOS, décharge par étincelle, détection de métaux
Limites de détection ultra-basses
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Faible coût d'exploitation et entretien facile
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification standardisée des paramètres
Maximum 30+ éléments
Analyse à haute teneur en azote (N) 0,03-0,9 %
L'analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Basé sur CMOS, décharge par étincelle, détection de métaux
Limites de détection ultra-basses
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Faible coût d'exploitation et entretien facile
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification standardisée des paramètres
Maximum 30+ éléments
Analyse à haute teneur en azote (N) 0,03-0,9 %
L'analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Basé sur CMOS, décharge par étincelle, détection de métaux
Limites de détection ultra-basses
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Faible coût d'exploitation et entretien facile
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification standardisée des paramètres
Maximum 30+ éléments
Analyse à haute teneur en azote (N) 0,03-0,9 %
L'analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Basé sur CMOS, décharge par étincelle, détection de métaux
Limites de détection ultra-basses
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Faible coût d'exploitation et entretien facile
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification standardisée des paramètres
Maximum 30+ éléments
Analyse à haute teneur en azote (N) 0,03-0,9 %
L'analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Basé sur CMOS, décharge par étincelle, détection de métaux
Limites de détection ultra-basses
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Faible coût d'exploitation et entretien facile
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification standardisée des paramètres
Maximum 30+ éléments
Analyse à haute teneur en azote (N) 0,03-0,9 %
L'analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Basé sur CMOS, décharge par étincelle, détection de métaux
Limites de détection ultra-basses
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Faible coût d'exploitation et entretien facile
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification standardisée des paramètres
Maximum 30+ éléments
Analyse à haute teneur en azote (N) 0,03-0,9 %
cl, K, si, mg, al, S, P, ca, fe dans le ciment et le calcaire
structure de chemin optique à éclairage supérieur
haute précision, bonne stabilité, fonctionnement simple
résultats des tests proches des tests par méthode chimique humide
seulement quelques minutes pour analyser des dizaines d'éléments dans un échantillon
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