Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Résumé:
Le spectromètre d'émission optique W5 intègre une technologie de pointe européenne. Il s'agit du 4e ème Spectromètre d'émission optique à arc/étincelles de nouvelle génération (W5) offrant des performances élevées et un coût d'exploitation réduit pour l'analyse des métaux. Ce modèle représente le fruit de la dernière recherche et du développement en matière d'équipements de détection. La conception optique globale a été optimisée grâce aux améliorations apportées à la technologie CMOS, ce qui permet d'améliorer encore les performances du W5 tout en conservant les principaux avantages des modèles précédents. Le spectromètre CMOS offre non seulement les caractéristiques spectrales complètes d'un spectromètre CCD, mais aussi une limite de détection extrêmement basse pour les éléments non métalliques tels que C, S, P, B, As, N, etc. Son utilisation est simple et intuitive. Les résultats des tests sont stables et précis. Il constitue un excellent choix pour le contrôle qualité des métaux courants, tant à l'entrée qu'à la sortie des produits.
Application:
Le spectromètre d'émission optique W5 (OES à étincelles) est utilisé pour des applications dans l'analyse élémentaire des métaux, l'analyse des éléments traces pour la science et l'industrie comme la métallurgie, la fonderie, le génie mécanique, la recherche scientifique, l'inspection des produits, l'automobile, le génie pétrochimique, la construction navale, l'électricité, l'aérospatiale, l'énergie nucléaire, la fusion, le traitement et le recyclage des métaux ferreux et non ferreux.
Usines sidérurgiques où une grande précision est requise ou pour des éléments comme C, N, Cr, S, P, etc.
Laboratoires d'essais : laboratoires d'essais commerciaux, universités et écoles supérieures
Applications aux métaux purs : Al, Pb, Zn, C vous etc. – la plupart des utilisateurs industriels
Conformité réglementaire. Limites de détection très faibles pour contrôler le Pb, le Cd, l'As, etc.
Fonderies nécessitant une analyse rapide à proximité du four
Installations de fabrication
Identification des matériaux d'entrepôt
Base : Fe, Cu, Al, Ni, Co, Mg, Ti, Zn, Pb, Sn, Ag, Mn, Cr, etc.
Caractéristiques :
1. Système optique haute performance, numérique intelligent parc Source
2. Il peut détecter des éléments tels que C, P, S, N et il convient à une variété de supports métalliques.
3. La conception du circuit de gaz argon est raisonnable afin de raccourcir le temps de lavage à l'argon lors de l'excitation de l'échantillon.
4. La vitesse d'analyse est rapide, tous les éléments du canal peuvent être testés en moins de 20 secondes.
5. Le piège à absorption solide peut empêcher l'huile et le gaz de polluer la chambre lumineuse et améliorer sa stabilité.
6. Modification des paramètres standardisés.
7. Fonction de correction de l'échantillon de contrôle.
8. Les composants principaux sont tous des pièces d'origine importées afin de garantir la qualité des produits.
Paramètre :
|
Article |
Indice |
|
Système optique |
|
|
structure optique |
Système optique de type vide complet de construction Paschen Runge |
|
température ambiante |
35℃±0,5℃ |
|
Gamme de longueurs d'onde |
130-800 nm |
|
Distance focale |
400 mm |
|
Ligne de grille |
2400 m1/mm |
|
dispersion de raie spectrale du premier ordre rare |
1,2 nm/mm |
|
Détecteur |
matrice CMOS linéaire multibloc haute performance |
|
Rapport de résolution moyen |
22h/pixel |
|
Tableau Spark |
|
|
Gaz |
Gaz argon (99,999 %) |
|
débit d'argon |
Lorsque l'étincelle se produit : 3-5 L/min Temps d'attente : aucun besoin de trafic en veille |
|
Électrode |
technologie des électrodes en tungstène |
|
Purge |
Fonction de purge automatique |
|
Se maquiller |
Conception d'autocompensation de la déformation thermique |
|
Analyser l'écart |
Platine porte-échantillon : 3,4 mm |
|
Source Spark |
|
|
Taper |
HEPS |
|
Fréquence |
100-1000 Hz |
|
Courant de décharge |
1-400A |
|
Technologie spéciale |
Conception optimisée des paramètres de décharge |
|
Précombustion |
Technologie de précombustion à haute énergie |
|
Processeur |
Acquisition et traitement de données synchronisées à haute vitesse, avec processeur ARM haut de gamme |
|
système de collecte de données |
|
|
Interface |
Transmission de données Ethernet basée sur DM9000A |
|
Pouvoir |
220 V CA 50/60 Hz (Personnalisé) |
|
Autres |
|
|
Base |
Fe, Cu, Al, Ni, Co, Mg, Ti, Zn, Pb, Sn, Ag, Mn, Cr, etc. |
|
Consommation d'énergie |
Puissance maximale : 750 W, en veille : 40 W |
|
Température de fonctionnement |
10-35℃ ( température ≥5°C) |
|
Humidité de fonctionnement |
20-85% |
|
Dimension |
860 mm (L) * 680 mm (l) * 438 mm (H) |
|
Poids |
Environ 100 kg |
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Spectromètre d'émission optique à décharge par étincelles basé sur la technologie CMOS
Analyse multi-bases et complète du spectre pour une flexibilité élémentaire maximale
Limites de détection ultra-faibles
Plage de longueurs d'onde : 130 nm à 800 nm, maximum 30+ éléments
Stabilité et répétabilité à long terme
Excellente spectroscopie d'émission optique verticale
Manomètre à vide pour surveiller l'état du vide en temps réel
Analyse à très faible teneur en carbone et en azote
Applications d'analyse de petits échantillons
© droits dauteur © 2025 Wuxi Jinyibo Instrument Technology Co.,Ltd tous les droits sont réservés.
plan du site | Xml | politique de confidentialité |
苏ICP备18046951号-1
