Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Performances stables pour un fonctionnement industriel 24h/24 et 7j/7
Idéal pour le contrôle qualité des faces avant des fours et la vérification des matériaux
Qu'est-ce que le spectromètre d'émission optique Spark OES / Spark Optical Emission Spectrometer ?
Aussi communément appelé Spectromètre d'émission optique à spectre complet (OES) Cet instrument utilise la technologie de la spectroscopie d'émission atomique.
Sous l'effet d'une excitation par arc électrique ou étincelle, les échantillons métalliques génèrent des spectres caractéristiques. Son système de détection à spectre complet collecte simultanément tous les signaux de longueur d'onde, puis calcule et affiche automatiquement la teneur en différents éléments.
Grâce à ses tests rapides, sa grande précision et sa facilité d'utilisation, il est largement utilisé en métallurgie, en fonderie, dans la fabrication de machines et pour le contrôle des matériaux.
Caractéristiques du spectromètre d'émission optique à étincelles
1. Système optique à performances supérieures, source d'étincelles numériques intelligentes.
2. Il peut détecter des éléments tels que C, P, S et N et convient à une variété de supports métalliques.
3. La conception du circuit de gaz argon est raisonnable afin de raccourcir le temps de lavage à l'argon lors de l'excitation de l'échantillon.
4. La vitesse d'analyse est rapide, tous les éléments du canal peuvent être testés en moins de 20 secondes.
5. Le piège à absorption solide peut empêcher l'huile et le gaz de polluer la chambre lumineuse et améliorer sa stabilité.
6. Modification des paramètres standardisés.
7. Fonction de correction de l'échantillon de contrôle.
8. Tous les composants principaux sont des pièces d'origine importées afin de garantir la qualité des produits.
Application du spectromètre à lecture directe
Inspection des matières premières
Vérifier la composition chimique de la fonte brute, des additifs d'alliage et des lingots métalliques avant la production, afin d'éliminer les matériaux non conformes.
Analyse du front de fournaise
Contrôlez rapidement le métal en fusion pendant le processus. Les opérateurs peuvent ainsi ajuster le rapport en temps réel pour garantir la conformité des composants aux normes requises.
Contrôle de la qualité des produits
Tester avec précision les pièces moulées et les pièces finies afin de confirmer qu'elles répondent aux normes de l'industrie et aux exigences du client.
Développement d'alliages et mise au point de formules
Soutenir la recherche sur de nouveaux matériaux et l'amélioration des formules afin d'optimiser les performances des produits.
Gestion et traçabilité des données
Enregistrement automatique des données de test et génération de rapports, facilitant l'audit qualité et la certification des produits.
Paramètre :
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Article |
Indice |
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Système optique |
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structure optique |
Système optique de type vide complet de construction Paschen Runge |
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température ambiante |
35 ℃ ±0,5 ℃ |
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Gamme de longueurs d'onde |
130-800 nm |
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Distance focale |
400 mm |
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Ligne de grille |
2400 m1/mm |
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dispersion de raie spectrale du premier ordre rare |
1,2 nm/mm |
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Détecteur |
matrice CMOS linéaire multibloc haute performance |
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Rapport de résolution moyen |
22h/pixel |
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Tableau Spark |
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Gaz |
Gaz argon (99,999 %) |
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débit d'argon |
Lorsque l'étincelle se produit : 3-5 L/min Temps d'attente : aucun besoin de trafic en veille |
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Électrode |
technologie des électrodes en tungstène |
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Purge |
Fonction de purge automatique |
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Se maquiller |
Conception d'autocompensation de la déformation thermique |
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Analyser l'écart |
Platine porte-échantillon : 3,4 mm |
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Source Spark |
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Taper |
HEPS |
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Fréquence |
100-1000 Hz |
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Courant de décharge |
1-400A |
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Technologie spéciale |
Conception optimisée des paramètres de décharge |
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Précombustion |
Technologie de précombustion à haute énergie |
|
Processeur |
Acquisition et traitement de données synchronisées à haute vitesse, avec processeur ARM haut de gamme |
|
système de collecte de données |
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Interface |
Transmission de données Ethernet basée sur DM9000A |
|
Pouvoir |
220 V CA 50/60 Hz (Personnalisé) |
|
Autres |
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Base |
Fe, Cu, Al, Ni, Co, Mg, Ti, Zn, Pb, Sn, Ag, Mn, Cr, etc. |
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Consommation d'énergie |
Puissance maximale : 750 W, en veille : 40 W |
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Température de fonctionnement |
10-35 ℃ ( température ≥5°C ) |
|
Humidité de fonctionnement |
20-85% |
|
Dimension |
860 mm (L) * 680 mm (l) * 438 mm (H) |
|
Poids |
Environ 100 kg |
Le spectromètre d'émission optique W5 est le spectromètre Arc/Spark-OES le plus avancé, offrant des performances optimales.
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
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Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Détection de métaux par décharge d'étincelles à base de CMOS
Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification des paramètres standardisés
Maximum 30+ éléments
Analyse à teneur élevée en azote (N) : 0,03-0,9 %
Analyseur de métaux haute performance de 4e génération
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Limites de détection ultra-faibles
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Réduction des coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
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