L'analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Basé sur CMOS, décharge par étincelle, détection de métaux
Limites de détection ultra-basses
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Faible coût d'exploitation et entretien facile
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification standardisée des paramètres
Maximum 30+ éléments
Analyse à haute teneur en azote (N) 0,03-0,9 %
Système de lecture CMOS haute résolution
Faible coût total de possession
Optique sous vide permettant une stabilisation rapide
Excellente stabilité à long terme
Conception intelligente, Conception modulaire
Applications ferreuses et non ferreuses
Facile à utiliser avec un contrôle total sur PC
Interface utilisateur conviviale
Système de lecture CMOS haute résolution
Faible coût total de possession
Optique sous vide permettant une stabilisation rapide
Excellente stabilité à long terme
Conception intelligente, Conception modulaire
Applications ferreuses et non ferreuses
Facile à utiliser avec un contrôle total sur PC
Interface utilisateur conviviale
L'analyseur de métaux haute performance de 4e génération
Basé sur CMOS, décharge par étincelle, détection de métaux
Limites de détection ultra-basses
Intégration élevée, fiabilité, stabilité
Faible coût d'exploitation et entretien facile
Chambre optique sous vide et faible consommation d'argon
Technologie à jet d'argon pour optimiser l'analyse de petits échantillons
Modification standardisée des paramètres
Maximum 30+ éléments
Analyse à haute teneur en azote (N) 0,03-0,9 %
précis, rapide, non destructif, simple, respectueux de l'environnement pour les éléments dans la gamme de na-u test sans halogène, Test ROHS/ELV mesure de l'épaisseur du revêtement identification de bijoux, pierres précieuses, métaux précieux maîtriser la matière inconnue une sensibilité exceptionnelle permet d'améliorer la précision jusqu'à un facteur 3 faible coût de mesure, facile à utiliser
苏ICP备18046951号-1
